Page 33 - 国外钢铁技术信息内参(2024年12月)
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吸附机理。下文将对每种机理进行简化并简要说明。 ᇏݓࣁඋ࿐߶
致可分为:(1) 浸泡机理;(2) 点缺陷模型;(3) 膜的开裂机理;(4) ᇏݓࣁඋ࿐߶
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图 3 点蚀(304 不锈钢,FeCl3) ᇏݓࣁඋ࿐߶
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图 4 浸泡机理
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浸泡机理如图 4 所示,Cl 浸泡至氧化膜并到达金属后,在金属上发挥特定
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作用,从而生成凹坑。在钝化膜中的电场(1×10 Vcm )作用下,吸附在表面
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的 Cl 能够轻松浸泡至膜中。由于 Cl 带负电荷,金属的电位越高,就越容易浸
泡。图 4 中以金属 Fe 为例。
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点缺陷模型体现为 Cl 吸附在膜表面导致在金属/膜界面上堆积金属离子气
孔,该部位的膜会变薄并出现凹坑。通常,氧化膜会随着时间的流逝或金属电
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位的增加而变厚。以金属 Fe 为例,这种膜的长大是由金属离子(Fe )和氧离
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子(O )的迁移引起的,如图 5 所示。由于这属于固体内迁移,Fe 若要从金
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属迁移至溶液需要金属离子气孔(VFe )向反方向迁移。VFe 的有效电荷为-2。
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CSM 中国金属学会 CMISI 冶金工业信息标准研究院
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